사업소개
끊임없는 연구와 기술 개발에 대한 열정을 가지고 세계로 나아가는 AP시스템
Display(전공정)
Plasma Enhanced Chemical Layer Deposition System (KORONA™ CVD)
- Micro-OLED 박막 봉지막 증착기
Technology
- 낮은 온도(80℃)에서 박막 봉지막 증착 가능 → OLED 소자 damage 최소화
- SiNx/SiON 박막의 우수한 투습 특성 → 봉지막 두께 최소화
- RPS(Remote Plasma System)를 사용한 cleaning 방식 적용
Features
- Excellent thickness uniformity of thin film
- Mask align
- RPS(Remote Plasma System) Cleaning
Specification
| Item | Specification | |
|---|---|---|
| Hardware | Substrate | 8 inch, 12 inch Wafer (EE : 3mm) 200 x 200mm Glass |
| Plasma source | CCP type | |
| RF generator | 13.56 MHz, 1.1 kW | |
| Substrate temperature | 80℃ ± 2℃ | |
| Base pressure | ≤ 1E-3 Torr (TBD) | |
| Process gas | SiH4, NH3, N2O, N2, H2 | |
| In-situ cleaning gas | NF3, Ar | |
| Process | Deposition material | SiNx, SiOx, SiON |
| Deposition rate | ≥3000Å/min | |
| Thickness uniformity | ≤ ± 3% | |
| Stress | ≤ ± 100 MPa | |
| WVTR | ≤ 5E-4 g/m²/day @ SiNx 1μm | |
| ≤ 5E-4 g/m2/day @ SiON 1μm | ||
| ≤ 1E-3 g/m2/day @ SiOx 1μm | ||
